深圳氣體高純氮概述說明、性質(zhì)、作用及用途： 純度大于99.999％。無色無臭無味無毒的惰性氣體。相對密度ds(21.1℃，空氣=1)0.967。氣體密度1.153kg/m3(21.1℃，101.3kPa)；液體密度808.5kg/m3(-195.8℃,101.3kPa)。沸點-195.8℃。熔點-209.9℃。氮氣純化方法主要有吸附法、變壓吸附法、膜分離法等。在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護氣和運載氣，化學氣相淀積時的載氣，液體擴散源的攜帶氣，在高溫擴散爐中用作器件的保護氣。高純氮在外延、光刻、清洗和蒸發(fā)等工序中，作為置換、干燥、貯存和輸送用氣體。顯像管制造中要求氮氣純度為99.99％以上。在航天技術(shù)中，液氫加注系統(tǒng)必須先用高純氮置換，再用高純氦置換。

當前純氮氣主要應(yīng)用于油田注氮、石油化工、合成纖維、合成氨、浮法玻璃、軋鋼和電子工業(yè)等領(lǐng)域。

油田注氮的制氮裝置規(guī)模最大，國外最大已有31萬Nm3/h,氮氣產(chǎn)品純度要求氧氣含量低于10ppm，產(chǎn)品壓力一般在300∽400bar，生產(chǎn)過程允許有短暫中斷，要求有少量液氮儲備；石油化工、合成纖維、合成氨、浮法玻璃、軋鋼等的制氮裝置規(guī)模一般是從幾千到幾萬不等，產(chǎn)品純度為要求含氧2∽100ppm,產(chǎn)品壓力一般在1.35∽31bar，有些設(shè)備需要有備用液氮，要求保證不間斷的產(chǎn)品供應(yīng)。

電子工業(yè)的制氮裝置規(guī)模較小，一般是從幾百到幾千，但是產(chǎn)品純度要求最高，通常對氧含量要求低于1ppm,同時對產(chǎn)品中CO和H2的含量有較高要求。產(chǎn)品壓力在3∽10bar,要求產(chǎn)品供應(yīng)不間斷，有備用液氮。

制氮行業(yè)經(jīng)過了幾十年的蓬勃發(fā)展，不管從規(guī)模以及產(chǎn)品要求上都上了一個臺階，針對不同規(guī)格的產(chǎn)品，目前國內(nèi)外已經(jīng)開發(fā)出了與其相適應(yīng)的制氮流程。

產(chǎn)品氮氣在5到8bar之間時有兩種方案：

第一種方案：返流膨脹流程，膨脹機增壓端增壓產(chǎn)品氮氣或者正流空氣。

第二種方案：正流膨脹流程，膨脹機增壓端增壓產(chǎn)品氮氣或者正流空氣，外加產(chǎn)品氮壓機壓縮，壓力高時這種流程優(yōu)勢大。

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